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輻射溫度計在單晶硅提拉設備的溫度控制上的運用

發布日期：2023-03-06 瀏覽次數：905

輻射溫度計在單晶硅提拉設備的溫度控制上的運用

多晶硅在坩堝中熔化時的溫度控制和晶種后旋轉提拉時的溫度控制。
從升降機視口進行的溫度測量。

單晶硅提拉設備溫度控制示意圖

單晶硅提拉過程中的溫度控制。

選型要點

對于硅的溫度測量，在 1.1 μm 或更小的波長下進行溫度測量是最佳的，因為溫度的發射率變化很小。
FTKX 系列和 FLHX 系列是理想的，因為它們具有廣泛的遠距離、小光點類型（從 φ0.15 起）。由于光纖頭結構緊湊且耐熱150°C，因此即使環境溫度稍高也可以安裝。
頭分離型無需采取輻射熱對策。

所選機型

NEW!在惡劣環境和狹小空間也能自由使用的1ms光纖型
半階型
光纖式輻射溫度計FTKX系列
測量溫度范圍：100°C至2000°C

纖維型（耐熱磁場）
高溫
用于通過石英
0.1ms/1ms快速響應
用于金屬

NEW! 1ms 輻射溫度計，規格可根據測量對象改變
無纖維輻射溫度計 FLHX 系列
測量溫度范圍：90°C 至 2000°C

高溫
用于通過石英
0.1ms/1ms快速響應
用于金屬

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聯系方式

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